MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機(jī),噴膠機(jī)采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來控制容積泵，從而保證精確輸送溶劑，保證超聲噴霧過程的連續(xù)性。通過一個超聲波霧化器來制備厚度較薄的微納米涂層，并且由一個步進(jìn)電機(jī)控制噴霧器可在X軸和Y軸方向移動，且移動速度可在一定范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)節(jié)，以確保噴涂后的基片表面涂層的均勻性。MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機(jī)通過一個加熱平臺來控制基底溫度，從而加速薄膜的干燥速度，加熱平臺的加熱溫度可高達(dá)500℃，在此溫度范圍內(nèi)基本可以滿足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)的需要。噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史。現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應(yīng)用。

產(chǎn)品名稱	MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機(jī),噴膠機(jī)
產(chǎn)品型號	MSK-USP-04C
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備噴頭為氣動輔助，需配套空氣壓縮機(jī)或者氣瓶（含減壓閥） 4、工作臺：落地式設(shè)備，占地面積2m2以上 5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù)	1、電源：220V  50Hz/60Hz
	2、超聲波霧化器：40KHz  100W 3、噴霧器在X軸和Y軸上的行程：1mm-200mm 4、噴霧器移動速度：X軸方向10mm/s-800mm/s，Y軸方向10mm/s-100mm/s 5、噴涂膠體顆粒大小： 10um-20um 6、流量大小： 0.6pl~4ml/min 7、固體含量要求： ≤ 10% 8、粘度大小要求： ≤ 100cPs  9、涂層間距：1mm-100mm 10、Z軸高度max調(diào)節(jié)量：60mm
	11、加熱器平臺尺寸：350mm×220mm 12、加熱溫度可高達(dá)：500℃，加熱板帶有抽氣微孔， 可以真空吸附較薄樣品，滿足鈣鈦礦太陽能電池等薄膜制備的需求。
	13、標(biāo)配注液器容積：20 ml 14、注液泵裝載：直徑不超過?30mm的注液器 15、注液速度：0.1mm/min-45mm/min，微調(diào)速度0.01mm/min-8mm/min 16、注射器行程設(shè)置范圍：0.001mm-120mm
	產(chǎn)品規(guī)格 尺寸：主機(jī)1550mm×750mm×750mm， ：250mm×225mm×170mm